碳化钽溅射靶,50.8mm (2.0in)直径 x 6.35mm (0.250in)厚,99.5%(metals basis)basis)

Tantalum carbide sputtering target, 50.8mm (2.0in) dia x 6.35mm (0.250in) thick, 99.5% (metals basis)

碳化钽溅射靶,50.8mm (2.0in)直径 x 6.35mm (0.250in)厚,99.5%(metals basis)basis) (产品描述请以英文为准,中文仅作参考)

产品编号 044341
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产品名称 Tantalum carbide sputtering target, 50.8mm (2.0in) dia x 6.35mm (0.250in) thick, 99.5% (metals basis)
中文名称 碳化钽溅射靶,50.8mm (2.0in)直径 x 6.35mm (0.250in)厚,99.5%(metals basis)basis)
CAS号 熔点(mp)
MDL编码 沸点(bp)
分子式(M.F.) 闪点(flp)
分子量(M.W. ) 密度
储存条件 Refrigerator +4°C 用途 科研专用
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